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国产 EUV 光刻机研发:关键部件突破,芯片自主化更近一步?​

国产 EUV 光刻机研发:关键部件突破,芯片自主化更近一步?​

前沿趋势 10
随着全球半导体产业的竞争日益激烈,芯片自主化已经成为国家战略的重要组成部分。在这一背景下,光刻机作为半导体制造中的核心设备,备受关注。尤其是极紫外光(EUV)光刻机的技术突破,更是标志着我国在高端制造设备领域迈出了重要一步。国产EUV光刻机的研发不仅对我国半导体产业具有重要意义,也对全球光刻技术格局产生深远影...