半导体光刻设备：国产 DUV 光刻技术升级，7nm 芯片量产更近？ 前沿趋势 2025-08-28 8 半导体光刻设备：国产 DUV 光刻技术升级，7nm 芯片量产更近？随着半导体技术的不断发展，光刻技术作为芯片制造中的核心工艺之一，越来越受到行业关注。尤其是国产 DUV（深紫外）光刻设备的不断升级，让中国在半导体领域的技术突破更加接近。7nm 芯片的量产成为业界关注的焦点，国产光刻设备是否能够打破技术瓶颈，迎... 阅读全文
